随着新技术、新型工业，尤其是电子工业的发展，特种陶瓷得到迅速的发展，有的陶瓷需要在真空条件下或保护气氛下烧成，常用的保护气氛是N2和H2。加热元件在1200℃以下常用铁铬铝合电热丝；在1400℃以下常用等直径硅碳棒；在1600℃以下常用硅钼棒；必须在还原性气氛（N2，H2等一）下工作的钼丝，可以在1800℃以下完全工作。
国营798厂研制的真空充氮升降式窑的主要技术指标如下：
窑炉主体外形尺寸 ：2400mm×2400mm×3600mm
窑室尺寸： 1200mm×1200mm×950mm
有效容积： 0.5m3
最高工作温度：1400℃
控温组数：7
加热元件：30/1000/350/30等直径硅碳棒
窑室温度均匀性：≤±5℃
烧成周期 ：24h
窑车数量：2（用1备1）
极限真空度：40Pa
窑内最低氧含量：50ppm（氮气原气纯度要求大于99.999%）
额定功率：150kW
氮气消耗量：150m3/炉
该窑采用全纤维窑衬，计算机程序控制。抽真空后可充氮气保护，并可采用氮气循环降温。适用于高性能软磁铁氧体材料的批量烧结，是节电省氮气的新一代电热保护气氛窑.
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